半導体に使用されるグラファイト粉末の条件は何ですか?

多くの半導体製品は、生産過程で製品の性能を向上させるためにグラファイト粉末を添加する必要があります。半導体製品の使用において、グラファイト粉末は高純度、細粒度、耐高温性のモデルを選択する必要があります。これらの要件に適合するものだけが半導体製品に悪影響を与えません。グラファイト粉末は、以下の条件に従って少量添加すると、半導体にどのような用途で使用されるかについて説明します。

グラファイト粉末

1、半導体の製造には高純度のグラファイト粉末を選択する必要があります。

半導体業界ではグラファイト粉末材料の需要が高く、純度が高いほど良いとされています。特にグラファイト部品は焼結金型など半導体材料と直接接触するため、不純物含有量によって半導体材料が汚染されるため、グラファイトを使用する際には原材料の純度を厳密に管理するだけでなく、高温グラファイト化処理によって灰分含有量を最小限に抑える必要があります。

2、半導体の製造には高粒径のグラファイト粉末を選択する必要があります。

半導体産業のグラファイト材料には細かい粒子サイズが求められ、微粒子グラファイトは加工精度の実現が容易なだけでなく、高温強度、損失が小さいため、特に焼結金型では高い加工精度が求められます。

3、半導体の製造には高温グラファイト粉末を選択する必要があります。

半導体産業で使用されるグラファイトデバイス（ヒーターや焼結ダイを含む）は、繰り返しの加熱と冷却のプロセスに耐える必要があるため、グラファイトデバイスの耐用年数を向上させるには、高温でも寸法安定性と熱衝撃性能に優れたグラファイト材料を使用する必要があります。