Aan veel halfgeleiderproducten moet tijdens het productieproces grafietpoeder worden toegevoegd om de prestaties van het product te verbeteren. Bij halfgeleiderproducten moet het grafietpoedermodel worden gekozen met een hoge zuiverheid, fijne korrel en hoge temperatuurbestendigheid. Dit model voldoet alleen aan de vereisten van halfgeleiderproducten. Het kan geen negatieve effecten hebben op halfgeleiderproducten. In overeenstemming met de onderstaande kleine hoeveelheden kunt u bespreken aan welke voorwaarden halfgeleiders moeten worden gebruikt?
Grafietpoeder
1. Bij de productie van halfgeleiders moet grafietpoeder met een hoge zuiverheidsgraad worden gekozen.
De halfgeleiderindustrie heeft een grote vraag naar grafietpoedermaterialen. Hoe hoger de zuiverheid, hoe beter. Vooral grafietcomponenten komen in direct contact met halfgeleidermateriaal, zoals sintermallen. Het gehalte aan onzuiverheden bij vervuiling van halfgeleidermateriaal kan toenemen. Daarom moet niet alleen bij het gebruik van grafiet de zuiverheid van de grondstoffen strikt worden gecontroleerd, maar moet ook door middel van een hogetemperatuurgrafietbehandeling het asgehalte tot een minimum worden beperkt.
2. Bij de productie van halfgeleiders moet grafietpoeder met een grote deeltjesgrootte worden gekozen.
Voor het grafietmateriaal in de halfgeleiderindustrie is een fijne deeltjesgrootte vereist. Fijn grafietdeeltjes zijn niet alleen gemakkelijk te verwerken, maar hebben ook een hoge temperatuursterkte en een klein verlies. Vooral voor sintermatrijzen is een hoge verwerkingsnauwkeurigheid vereist.
3. Bij de productie van halfgeleiders moet men kiezen voor grafietpoeder met een hoge temperatuur.
Omdat grafietapparaten die in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt (waaronder verwarmingselementen en sintermatrijzen) herhaaldelijke verwarmings- en koelprocessen moeten kunnen weerstaan, moeten grafietmaterialen die worden gebruikt bij hoge temperaturen, een goede maatvastheid en thermische slagvastheid hebben om de levensduur van grafietapparaten te verbeteren.
Plaatsingstijd: 26-11-2021