Muitos produtos semicondutores necessitam da adição de pó de grafite durante o processo de produção para melhorar o desempenho. Para a utilização em semicondutores, o pó de grafite deve ser de alta pureza, granulometria fina e resistente a altas temperaturas. Somente atendendo a esses requisitos é que o produto não terá efeitos negativos. A seguir, discutiremos as condições de uso do pó de grafite em semicondutores.
Pó de grafite
1. Na produção de semicondutores, é necessário escolher pó de grafite de alta pureza.
Na indústria de semicondutores, a demanda por materiais em pó de grafite é alta, e quanto maior a pureza, melhor. Isso se deve principalmente ao fato de que os componentes de grafite entram em contato direto com o material semicondutor, como em moldes de sinterização, onde impurezas podem contaminar o material. Portanto, não apenas a pureza da matéria-prima deve ser rigorosamente controlada, mas também o teor de cinzas deve ser minimizado por meio de tratamento de grafitização em alta temperatura.
2. Na produção de semicondutores, é necessário escolher pó de grafite com granulometria elevada.
O material de grafite para a indústria de semicondutores requer granulometria fina. O grafite de partículas finas não só facilita a obtenção de precisão no processamento, como também apresenta alta resistência a altas temperaturas e baixa perda, sendo especialmente indicado para moldes de sinterização que exigem alta precisão de processamento.
3. Na produção de semicondutores, é necessário escolher pó de grafite para altas temperaturas.
Como os dispositivos de grafite usados na indústria de semicondutores (incluindo aquecedores e matrizes de sinterização) precisam suportar processos repetidos de aquecimento e resfriamento, para melhorar a vida útil desses dispositivos, são utilizados materiais de grafite com boa estabilidade dimensional e desempenho em impacto térmico em altas temperaturas.
Data da publicação: 26/11/2021