多くの半導体製造工程では、製品の性能向上のためにグラファイト粉末が添加されますが、すべてのグラファイト粉末が要件を満たせるわけではありません。半導体用途では、グラファイト粉末は通常、純度、粒子サイズ、耐熱性などを考慮して選定されます。以下は、古鉄グラファイト小編です。グラファイト粉末が半導体製造工程でどのような用途に使用できるかご説明いたします。
グラファイト粉末
1. 純度規制
半導体産業におけるグラファイト粉末原料の生産要件は非常に高く、特にグラファイトデバイス同士の接触においては、不純物が多すぎると原料が汚染される可能性があります。そのため、グラファイト原料の純度を厳格に管理するだけでなく、高温処理によってグレーレベルを最小限に抑えることも求められます。
2、粒度分布規定
半導体工業グレードのグラファイト原料は微粒子であり、グラファイトの微粒子は生産と加工精度が非常に達成しやすく、高温での圧縮強度が高く、消費量が少ないです。
3、耐熱規定
半導体産業におけるグラファイトデバイスの製造では、デバイスの使用効率を向上させるために、連続加熱と冷凍がほとんど行われ、グラファイト原料は高温でも優れた信頼性と耐高温衝撃性能を備えています。
上記の規定に則ったグラファイト粉末は、半導体製造プロセスへの応用がより効果的です。工業生産用のグラファイト粉末の購入をご希望の場合は、古宇利グラファイト工場までお気軽にお問い合わせください。
投稿日時: 2022年3月30日