In vielen Halbleiterfertigungsprozessen wird Graphitpulver zur Leistungssteigerung eingesetzt, jedoch erfüllt nicht jedes Graphitpulver die Anforderungen. Bei Halbleiteranwendungen werden Reinheit, Partikelgröße und Hitzebeständigkeit von Graphitpulver üblicherweise berücksichtigt. Im Folgenden erfahren Sie, für welche Halbleiterverarbeitungsprozesse Graphitpulver geeignet ist:
Graphitpulver
1. Reinheitsvorschriften
Die Anforderungen an Graphitpulver-Rohstoffe in der Halbleiterindustrie sind sehr hoch, insbesondere im Kontaktbereich zwischen zwei Graphitbauteilen. Zu viele Verunreinigungen können den Rohstoff verunreinigen. Daher ist neben der strengen Kontrolle der Graphitreinheit auch die Minimierung des Grauanteils durch Hochtemperaturbehandlung unerlässlich.
2. Bestimmungen zur Partikelgrößenverteilung
Graphitrohstoffe in Halbleiterindustriequalität werden zu feinen Partikeln verarbeitet. Feine Graphitpartikel ermöglichen eine sehr präzise Produktion und Verarbeitung sowie eine hohe Druckfestigkeit bei hohen Temperaturen und einen geringen Verbrauch.
3. Bestimmungen zur Hitzebeständigkeit
Bei der Herstellung von Graphitbauteilen in der Halbleiterindustrie werden die meisten Geräte kontinuierlich erhitzt und gekühlt. Um die Nutzung der Bauteile zu verbessern, müssen Graphitrohstoffe eine ausgezeichnete Zuverlässigkeit und hohe Schlagfestigkeit bei hohen Temperaturen aufweisen.
Gemäß den oben genannten Bestimmungen eignet sich Graphitpulver besonders für die Halbleiterverarbeitung. Wenn Sie Graphitpulver für die industrielle Produktion erwerben möchten, besuchen Sie uns gerne in der Graphitfabrik Furuite, um weitere Informationen zu erhalten.
Veröffentlichungsdatum: 30. März 2022