Em muitos processos de fabricação de semicondutores, o pó de grafite é adicionado para melhorar o desempenho dos produtos, mas nem todo pó de grafite atende aos requisitos. Em aplicações de semicondutores, o pó de grafite geralmente é avaliado quanto à pureza, tamanho das partículas e resistência ao calor. Abaixo, a Furuite Graphite Xiaobian explica quais tipos de pó de grafite podem ser utilizados no processamento de semicondutores:
Pó de grafite
1. Regulamentação da pureza
A indústria de semicondutores exige um alto nível de pureza na produção de pó de grafite como matéria-prima, especialmente no contato entre dois dispositivos de grafite, onde impurezas em excesso podem contaminar a matéria-prima. Portanto, além do rigoroso controle de pureza da matéria-prima de grafite, é necessário reduzir o nível de impurezas ao mínimo por meio de altas temperaturas.
2. Disposições sobre a distribuição do tamanho das partículas
A grafite, matéria-prima de grau industrial para semicondutores, é transformada em partículas finas, o que facilita a obtenção de precisão na produção e no processamento, além de apresentar alta resistência à compressão em altas temperaturas e baixo consumo.
3. Disposições sobre resistência ao calor
Na indústria de semicondutores, a produção de dispositivos de grafite envolve, em sua maioria, aquecimento e refrigeração contínuos. Para melhorar o desempenho dos dispositivos, a matéria-prima de grafite deve apresentar excelente confiabilidade e alta resistência ao impacto em altas temperaturas.
Em conformidade com as disposições acima, o pó de grafite pode ser melhor utilizado no processamento de semicondutores. Se você também deseja adquirir pó de grafite para produção industrial, entre em contato com a fábrica de grafite Furuite para obter mais informações.
Data da publicação: 30 de março de 2022