반도체 제조 공정에서 성능 향상을 위해 흑연 분말이 첨가되는 경우가 많지만, 모든 흑연 분말이 요구 조건을 충족하는 것은 아닙니다. 반도체 분야에서 흑연 분말은 일반적으로 순도, 입자 크기, 내열성 등을 고려하여 선택됩니다. 아래에서는 반도체 가공에 적합한 흑연 분말에 대해 간략하게 설명드리겠습니다.
흑연 분말
1. 순도 규제
반도체 산업에서 흑연 분말 원료 생산에 필요한 요구 조건은 매우 높으며, 특히 두 흑연 소자가 접촉하는 부분에서 불순물이 너무 많으면 원료가 오염될 수 있습니다. 따라서 흑연 원료의 순도를 엄격하게 관리하는 것 외에도 고온 처리를 통해 회색도를 최소화해야 합니다.
2. 입자 크기 분포 규정
반도체 산업용 등급의 흑연 원료를 미세 입자로 가공하면, 미세 입자의 흑연은 생산 및 가공 정밀도를 쉽게 달성할 수 있고, 고온 압축 강도가 높으며, 소비량이 적습니다.
3. 내열성 규정
반도체 산업에서 생산되는 흑연 소자는 대부분 연속적인 가열 및 냉각 과정을 거치는데, 소자의 활용도를 높이기 위해 흑연 원료는 고온 환경에서 뛰어난 신뢰성과 내열 충격 성능을 갖추어야 합니다.
위의 규정에 따라 흑연 분말은 반도체 공정에 더욱 효과적으로 사용될 수 있습니다. 산업 생산용 흑연 분말 구매를 원하시는 경우, 후루이트 흑연 공장에 방문하셔서 자세한 내용을 문의해 주십시오.
게시 시간: 2022년 3월 30일